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SUSS 掩模对准器 MA100/150e Gen2

发布日期:2022-06-13

SUSS MicroTec为热门化合物半导体工艺专门设计了一款新型光刻平台:MA100/150e Gen2。化合物半导体工艺,是指诸如高亮发光二极管(HB-LEDs)、功率器件、RF-MEMS等方面的半导体应用。MA100/150e Gen2具备高精度对准功能,上至0.7µm的光刻分辨率,拥有为易碎、翘曲或透明晶圆片定制的传载系统等强大功能和配置,足以应对LED制造领域目前所有的工艺难题。它的推出将帮助客户提高制造效率,并有效降低成本。

基于SUSS MicroTec的光刻机经典设计,MA100/150e Gen2提供了卓越的工艺延展性,使客户能够将新的芯片设计快速投入市场,其光刻作业产量高达每小时145片。

MA100/150e Gen2针对上至4英寸的小尺寸晶圆片进行了特别优化设计。系统可以稳定地达到优于0.7µm的对准精度(直接对准)。选配的底部对准功能(BSA),对准精确度优于±1.5 µm。MA100/150e的对准单元针对LED制造工艺要求进行了特别调校,透明和表面粗糙的晶圆片都能获得极好的对比度。

SUSS MA100/150e Gen2 掩模对准器

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