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Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100
Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100

Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100

Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用,适用于12英寸晶圆。...

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TEL 二手气相化学沉积CVD设备triase
TEL 二手气相化学沉积CVD设备triase

TEL 二手气相化学沉积CVD设备triase

TEL气相化学沉积设备,CVD设备triase所有这些型号都具有灵活的设计,最多可以集成四个腔室,并且单个腔室已经优化了清洁技术,以实现高生产率和低 CoC。...

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novellus二手化学气相沉积mocvd设备 vector express
novellus二手化学气相沉积mocvd设备 vector express

novellus二手化学气相沉积mocvd设备 vector express

novellus化学气相沉积mocvd设备 vector express,购买于2004年,针对12英寸晶圆设计使用。...

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ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10
ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10

ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10

ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10采用DARC流程工艺,针对于8英寸晶圆的处理,现货供应...

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ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300
ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300

ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300

ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300生产于2003年,针对12寸(300nm)晶圆处理。...

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amat等离子化学气相沉积PECVD设备producer se
amat等离子化学气相沉积PECVD设备producer se

amat等离子化学气相沉积PECVD设备producer se

AMAT等离子化学气相沉积PECVD设备producer se,生产于2003年,采用PETEOS工艺,针对12英寸(300mm)晶圆处理。...

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AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT
AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT

AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT

AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT,针对于300nm晶圆,主机类型为Centura AP,工艺采用WCVD,拥有4个腔室,3个装载端口。...

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等离子体增强型CVD设备 PD-3800L
等离子体增强型CVD设备 PD-3800L

等离子体增强型CVD设备 PD-3800L

PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的锁载等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。...

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热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积设备
热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积设备

热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积设备

AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外,可以在高宽比的孔...

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等离子气相沉积设备 AD-230LP
等离子气相沉积设备 AD-230LP

等离子气相沉积设备 AD-230LP

AD-230LP是一种原子层沉积(ALD)系统,能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室,仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室,且不向大气开放...

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高精密PECVD沉积设备系列
高精密PECVD沉积设备系列

高精密PECVD沉积设备系列

1.等离子增强型化学气相沉积设备 2.用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积 3.膜层应力稳定,可调范围广泛 4.可换托盘式,基板尺寸切换简便...

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