佳鼎半导体-光刻机,二手翻新ASML/Nikon光刻机,芯片代工

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二手翻新现货光刻机维修芯片解决方案

: 光刻机; 光刻机

二手ASML、Nikon光刻机翻新现货，ARF曝光机KRF曝光机改造，I线、G线光刻机维修。 ...
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: 刻蚀系统; 刻蚀系统

TEL/AMAT/LAM刻蚀机、蚀刻系统二手现货，针对8寸，12寸晶圆 ...
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: 曝光显影设备; 曝光显影设备

服务内容包括 LET 显影设备、 MARK V 等原机性能评估测试、各功能模块功能恢复、设备精度调试及测试以达到客户要求，同时可提供保修期、培训及大线...
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: 沉积设备; 沉积设备

等离子增强型化学气相沉积设备；用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积；膜层应力稳定,可调范围广泛；可换托盘式,基板尺寸切换简便 ...
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: 镀膜设备; 镀膜设备

溅射镀膜设备、蒸发镀膜系统精度可达10E-10m，纯度高、附着力强、均匀性好。 ...
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: 清洗设备; 清洗设备

至纯科技单片和槽式湿法清洗设备，占地面积小，清洗效果和均匀性好。 ...
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: 电镜设备; 电镜设备

扫描电镜，高分辨率，合计紧凑高度集成，定位准确性能稳定，拓展性强。 ...
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: 光刻机耗材配件; 光刻机耗材配件

光刻胶对应不同型号、不同分辨率的光刻机作为抗刻蚀层保护衬底表面。 ...
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我们的优势

翻新现货*技术修改

二手现货

独立货源，翻新修改
现货供应！
顶尖技术

国内唯一ArF, KrF, I Line, G Line全部工程案例
核心团队
范围广泛

针对12英寸及以下的不同尺寸、不同掩模版尺寸
均能满足不同需求；
备品备件

光学系统在内的全面翻新、调试、测试备品备件
均可供应
工艺制程

针对不同产品如MEMS、MICROLED等
设备选型、技术匹配
整体打包

针对半导体相关设备显影、镀膜等
均可供应和修改
设备改造

技术团队能够对蚀刻、清洗设备等
翻新改造
芯片代工

我们有完善的半导体制造生产线，
保证产能
技术咨询

针对各种半导体设备的技术咨询
免费解答
交付能力

设备现货供应、翻新改造迅速
货期最短至45天

服务项目

高质量、高效益、可持续发展

: 芯片代工; 芯片代工

我们团队拥有自己的半导体生产车间， 20+ 台光刻机同时工作，能够保证芯片的生产能力达到一定的水平，为我们的合作伙伴保障充足的供货量。 ...
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: 光刻设备改造; 光刻设备改造

我们的技术团队是国内唯一完成过 ArF, KrF, I Line, G Line 全部工程案例的团队，拥有 ASML 和 NIKON 光刻机的翻新改造、安装调试及维护的核心技术能力。针...
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: 光刻机维修; 光刻机维修

公司能够进行包括光学系统在内的全面翻新、调试、维修，具备完整的运行保障能力，和备品备件的供应。 ...
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: 芯片生产方案设计; 芯片生产方案设计

公司针对不同产品（如 MEMS 、 MICROLED 、 DMOS 、 CMOS 等），具备资深的工艺人才和技术基础，能够针对不同的产品特性进行设备选型、技术匹配及工艺试验...
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