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Nikon尼康二手i-line光刻机NSR 2205 i12D
Nikon尼康二手i-line光刻机NSR 2205 i12D

Nikon尼康二手i-line光刻机NSR 2205 i12D

尼康的这款i-line光刻机NSR 2205i12D。分辨率≦350 nm,曝光光源i-line(365nm波长),缩小比1:5,曝光场22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 对准精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。...

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ASML二手翻新DUV光刻机XT:760F现货
ASML二手翻新DUV光刻机XT:760F现货

ASML二手翻新DUV光刻机XT:760F现货

ASML 二手翻新DUV光刻机生产于2006年,可针对于300mm尺寸的晶圆进行处理。...

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ASML二手DUV光刻机XT:450现货
ASML二手DUV光刻机XT:450现货

ASML二手DUV光刻机XT:450现货

TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具,设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。...

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ASML二手i-line光刻机XT:400G
ASML二手i-line光刻机XT:400G

ASML二手i-line光刻机XT:400G

TWINSCAN XT:400G 365 nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具,专为350 nm分辨率的300 mm晶圆批量生产而设计...

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ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi

ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi

TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。...

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ASML 二手ArF光刻机XT:1450现货供应
ASML 二手ArF光刻机XT:1450现货供应

ASML 二手ArF光刻机XT:1450现货供应

XT:1450 是先进的干式 ArF 批量生产系统。它提高了 IC 制造商的所有权价值,在批量制造条件下每小时可生产 143 片晶圆。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振,加上增强的镜头像差控制和增强的叠加...

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ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应
ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应

ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应

XT:1400Ei拥有高性能蔡司1400i镜头,拥有从0.65到0.93,此外,湿式系统增加了两倍自由度。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250i
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250i

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250i

WINSCAN XT:1250i使用193 nm波长的光,具有数值孔径为0.85的透镜系统。它被描述为预生产光刻扫描仪,标志着在1150i的Twinscan上的一个进步,这是ASML最初的浸入式原型,其数值孔径相对较低,...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250B
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250B

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250B

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250B,分辨率<70nm。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250

TWINSCAN XT:1250 – 一款 0.85 NA、193 nm 量产光刻扫描仪,可将成像扩展到 200 mm 和 300 mm 晶圆上的 65 nm 节点。...

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ASML二手现货光刻机XT:1000H
ASML二手现货光刻机XT:1000H

ASML二手现货光刻机XT:1000H

ASML二手现货光刻机XT:1000H,用于200 mm和300 mm晶圆生产...

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ASMK二手翻新KRF光刻机PAS 5500/8TFH-A
ASMK二手翻新KRF光刻机PAS 5500/8TFH-A

ASMK二手翻新KRF光刻机PAS 5500/8TFH-A

PAS5500/8TFH-A KrF步进扫描系统是一种专用的光刻工具,用于在125毫米、150毫米和200mmAlTiC晶片上生产薄膜头(TFH)。...

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