ASML DUV 光刻机 PAS 5500/750F DUV步进和扫描系统使用成熟的 248-nm KrF技术实现130nm量产。它结合了改进的0.7 NA 4x缩小镜头的成像能力，以及水准系统中最新的多点创新和 AERIAL II 照明技术，包括 QUASAR、多极照明和可选的多重曝光能力。该系统配备TTL对准和ATHENA，以提高后端工艺层的对准精度，提供小于25nm的长期单机覆盖，进一步减少开销时间，并结合提高客户工作的生产率，提供了130（200mm）每小时的生产吞吐量。应用具有可变激光器频率控制的2 kHz 20W KrF激光器可以获得最低的操作成本。
