ASML DUV 光刻机 PAS 5500/750F DUV步进和扫描系统使用成熟的 248-nm KrF技术实现130nm量产。它结合了改进的0.7 NA 4x缩小镜头的成像能力,以及水准系统中最新的多点创新和 AERIAL II 照明技术,包括 QUASAR、多极照明和可选的多重曝光能力。该系统配备TTL对准和ATHENA,以提高后端工艺层的对准精度,提供小于25nm的长期单机覆盖,进一步减少开销时间,并结合提高客户工作的生产率,提供了130(200mm)每小时的生产吞吐量。应用具有可变激光器频率控制的2 kHz 20W KrF激光器可以获得最低的操作成本。