Mattson二手刻蚀设备ParadigmE于2012年开始使用,针对于12寸晶圆的刻蚀处理。
基于获得专利的感应耦合等离子体(ICP)和接地法拉第屏蔽源设计,paradigmE等离子体蚀刻系统具有独立控制离子能量和离子密度的独特能力。
paradigmE XP系列产品对晶圆器件具有优异的腐蚀选择性和低等离子体损伤,广泛用于半导体前端和后端制造中的薄膜腐蚀。
paradigmE PAD系列产品具有高蚀刻率、低等离子体损伤和低耗材成本的优点,是量产中唯一的ICP PAD蚀刻机。
我们的paradigmE等离子刻蚀系统在前沿存储器和逻辑半导体制造领域表现出了高性能、高可靠性和低拥有成本。