美国为了限制中国芯片产业的发展可谓无所不用其极，此前眼看仅是联合荷兰无法阻止中国芯片产业的发展，近日又拉拢了日本，然而近日中国一家机构却突然宣布了一项重大技术突破，意味着国产光刻机产业链又打通了一个环节。
之前美国要求ASML不要对中国出售EUV光刻机，ASML照做了，由此导致中芯国际支付了超过1亿美元的EUV光刻机至今未能到货；2022年下半年美国更进一步要求ASML不要对中国出售14纳米以下的DUV光刻机，试图借此进一步扼杀中国芯片。
然而中国随后与日本合作，采购日本尼康的光刻机，2022年中国一家芯片企业招标27台光刻机，其中21台就给了日本光刻机企业，6台则给了国内的光刻机企业；同时中国也大举从日本进口二手光刻机，满足了国内成熟工艺产能扩张的要求。
有见及此，美国这次拉拢了日本，日本和荷兰的光刻机企业几乎垄断了全球光刻机市场，由此中国连用于成熟工艺的DUV光刻机都难以获得了，似乎美国的图谋可望再次得逞，然而近期哈工大却突然宣布光刻机的一项重要技术取得了突破。
哈工大宣布研发成功的技术名为“高速超精密激光干涉仪”，这项技术是14纳米光刻机的重要技术，可以确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置，实现光刻机的整体套刻精度，解决了光刻机的一项重要技术难题，这项技术还获得了世界光子大会“金燧奖”的金奖，证明了技术的含金量。
光刻机本身就是一个很长的产业链，据悉ASML的EUV光刻机就包括10万个零部件，需要全球5000家企业合作，由此可以证明光刻机的技术研发难度，正是由于光刻机的技术难度极大，打通产业链就需要较长时间。
此前的消息指出中国在双工作台、物镜系统、激光光源等方面都已取得了进展，如今再有高速超精密激光干涉仪的技术突破，代表中国正进一步加快光刻机产业链的技术成绩，中国也成为全球唯一一个拥有完善光刻机产业链的经济体。
正是眼见着中国的光刻机产业链一步步打通，光刻机巨头ASML从之前说即使给中国图纸，中国也无法生产出先进光刻机，如今则改了口风，认为再给中国3-5年时间，中国就能生产出先进光刻机。
这几年美国的做法逼出了中国芯片行业的潜力，中国芯片屡屡打破空白，在存储芯片、射频芯片、GPU芯片方面都取得了突破，经过这几年的努力在光刻机关键技术上也陆续取得进展可谓顺理成章，面对中国光刻机产业链的进展，ASML已表现出担忧的态度，ASML高管喊话美国指继续限制对中国供应光刻机将会加速中国芯片产业链的发展，可以说是对美国提出了警告。
连美国富豪比尔盖茨也认为美国的做法只会让美国芯片蒙受巨大的损失，挡不住中国芯片前进的脚步，如今美国多家芯片企业都公布了2022年下滑的业绩，其中Intel连续两个季度亏损、美光也已开始出现亏损，印证了比尔盖茨的预测。
中国芯片则在大踏步前进，不断以国产芯片替代美国芯片，由此中国芯片的自给率迅速提升到三成以上，而芯片进口减少了970亿颗，相信光刻机这个最后环节也必将被打破，美国的限制最终吃亏的将是美国芯片。
