支持多重曝光、实现了超高精度与高产出的ArF液浸式扫描光刻机ArF液浸式扫描光刻机 NSR-S622D
ArF液浸式扫描光刻机NSR-S622D专为20 nm以下制程的量产而开发，且采用了Streamlign Platform。在维持了NSR-S621D的高产出的同时，提高了投影镜头的性能与自动对焦功能，从而实现了小于3.5 nm且支持多重曝光的光刻机间的重合精度(MMO : Mix and Match Overlay)。有助于最尖端设备量产线实现稳定运转。
特点：
Bird's Eye Control重合精度的大幅度提高
通过高精度编码器与以往的干涉仪构成的混合系统，实现了最佳工作台的性能
除了先进的对焦控制外，精度与稳定性也得到大幅度改善·实现了重合精度2nm以下的性能
Stream Alignment同时实现了高产出与高重合精度
通过大幅扩大光束跨距的“直线自动对焦”，一次性映射在晶圆表面，提高了对焦控制精度
FIA实现5眼观测，确保了生产效率的同时也增加了对准测量点数
犬幅缩短了操作晶圆的时间
实现了产出达每小时200片以上的卓越性能Modular2 Structure
实现了可迅速进行量产·模块设计使维护更简单
除了模块设计外，还能更换更为细小的零件，因此不仅可维护性大幅提高，运转率也得到提高
具有高度可扩展性的平台设计，可在不同系列的装置中使用
