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佳能二手翻新步进式光刻机FPA-3030EX6,用于物联网设备

发布日期:2022-05-11

佳能半导体光刻设备-步进式光刻机FPA-3030EX6,专用于物联网设备的KrF光刻机,最高分辨率达到150nm,可用电脑进行远程操控。

佳能二手光刻机FPA-3030EX6

特点与优势:

FPA-3030EX6步进器兼容多种特殊基板&小尺寸基板

FPA-3030EX6 配备与经过验证的 FPA-3030i5+ i-line 步进机相同的晶圆进给系统,支持处理用于制造物联网和功率设备的各种材料、尺寸和厚度的基板。

FPA-3030EX6 在 KrF 准分子激光步进器中提供最高水平的性能

继承了前代型号 FPA-3000EX6 步进机的性能,在同级别的 KrF 准分子激光步进机中实现了最高级别的分辨率(150 nm)、重叠精度(25 nm)和生产率(吞吐量*121 wph)。

200 毫米(8 英寸)晶圆,60 次

FPA-3030EX6 步进器与 FPA-3000EX6 标线和配方兼容

与 FPA-3000EX6 标线和配方的兼容性允许有效使用现有设施和资产。

规格参数

解析度
≦ 150 纳米
NA(数值孔径)
0.65~0.50(可变)
减速比
1:5
字段大小
22 毫米 x 22 毫米
曝光波长
KrF 248 纳米
光罩尺寸
6英寸
晶圆尺寸
100 毫米(4 英寸)、125 毫米(5 英寸)、150 毫米(6 英寸)、200 毫米(8 英寸)(选择)
叠加精度
≦ 25 纳米
主要选项
用于特殊基板的晶圆处理套件
PC 远程控制台
GEM 兼容在线软件
Pellicle Particle Checker
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公司地址
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