尼康Nikon i-line（365 nm 波长）光刻机NSR-4425i，解析度≤700nm，视场大小44*44mm，对准精度≤100nm。
本机的二次翻新改造针对于6英寸十字线系统，八英寸晶圆。光刻胶的膜厚度应为1.20µm，产能每小时100wph。
尼康Nikon i-line（365 nm 波长）光刻机NSR-4425i，解析度≤700nm，视场大小44*44mm，对准精度≤100nm。
本机的二次翻新改造针对于6英寸十字线系统，八英寸晶圆。光刻胶的膜厚度应为1.20µm，产能每小时100wph。
