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尼康Nikon i-line光刻机NSR-4425i

发布日期:2022-05-23

尼康Nikon i-line(365 nm 波长)光刻机NSR-4425i,解析度≤700nm,视场大小44*44mm,对准精度≤100nm。

本机的二次翻新改造针对于6英寸十字线系统,八英寸晶圆。光刻胶的膜厚度应为1.20µm,产能每小时100wph。

NSR-4425i验收指标

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