ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，产能300wph。
主要特点和优势
TWINSCAN NXT:1470 193nm步进扫描系统是第一款基于我们的高生产率、高精度NXT平台的“干式”光刻系统。因此，它是第一个实现优于 4.5 nm 的产品覆盖层的干法系统，也是第一台能够每小时处理超过 300 个晶圆的光刻机。
凭借其出色的覆盖和吞吐量性能，这款双级 ArF 光刻工具可帮助芯片制造商降低每次曝光成本，同时在相同的光刻电池占位面积上多生产 50% 的晶圆。它将使计划中的 KrF NXT 系统能够进一步降低芯片生产成本，同时改进匹配的机器覆盖以提高产量。
01.生产力
NXT:1470 的 NXT机身采用新一代晶圆级模块，其吞吐量比我们之前最快的 ArF 系统高出 50%。它得到了一个持续的路线图的支持，以进一步提高生产力，帮助制造商继续提高大批量芯片生产的成本效益。
02. 光学
TWINSCAN NXT:1470配备可变数值孔径 (0.70 – 0.93) Carl Zeiss Starlith 4X缩小镜头。与我们之前的干式 ArF 光刻系统相比，它包括一个额外的透镜元件和改进的透镜加热控制。
03. 成像性能
TWINSCAN NXT:1470 建立在我们最新版本的 NXT 高通量、高精度系统架构之上，具有改进的晶圆载物台和晶圆处理器。结合增强的光学和改进的透镜和光罩加热控制，它可以实现低于 4.5 nm 的产品覆盖 - 同时每小时处理超过 300 个晶圆。
借助偏振照明，NXT:1470 可以达到低至 57 nm 的生产分辨率。此外，最新的紫外线水平传感器可确保对整个晶圆进行出色的聚焦控制，尤其是边缘芯片。
