asml二手现货DUV光刻机XT:1460K采用193nmARF光源，分辨率65nm，产能205wph。
主要特点和优势
TWINSCAN XT:1460K 193 nm 步进扫描系统是一种高生产率的双级 ArF 光刻工具，设计用于以 65 nm 分辨率批量生产 300 mm 晶圆。TWINSCAN XT:1460K 包含一个可变的 0.93 NA 193 nm 投影镜头和先进的镜头操纵器。
TWINSCAN 平台的双晶圆台技术使一个晶圆的曝光和下一个晶圆的对齐能够并行进行，几乎消除了开销时间，并允许对晶圆进行连续图案化，以实现最大的生产力。
该工具提供出色的 CD 均匀性、行业领先的覆盖和长期性能稳定性。
01. 生产力
标准交付的 45 W ArF 激光器具有变频控制，结合整个系统的高光传输，可提供 205 wph（300 mm 晶圆）的生产能力。
02. 光学
TWINSCAN XT:1460K 系统将 0.65–0.93 NA 可变 Carl Zeiss Starlith 4X 缩小镜头的成像能力与 AERIAL-P 照明器技术相结合，将 ArF 技术扩展到 65 nm 技术节点之外。
03. 成像性能
该系统可以通过偏振照明实现低至 57 nm 的生产分辨率。配备最新的覆盖改进，TWINSCAN XT:1460K 在安装 TOP XT:1460K 封装后可以实现 ≤ 3.5 nm 的专用卡盘覆盖和 ≤ 5 nm 的匹配机器覆盖。
离线调平系统可确保对包括边缘芯片在内的整个晶圆进行出色的聚焦控制。该工具准备在极低的 k1 值下运行，提供出色的 CD 均匀性、行业领先的覆盖和长期性能稳定性。
