ASML二手现货DUV光刻机XT:860M

ASML二手现货DUV光刻机XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，产能240wph。

主要特点和优势

TWINSCAN XT:860M 步进扫描系统是一种高生产率的双级 KrF 光刻机，设计用于批量生产分辨率低于 110 纳米的 300 毫米晶圆。

通过将可变 0.55 –0.80 NA Carl Zeiss Starlith 860+ 4X 缩小镜头的成像能力与 AERIAL II 和可选的 QUASAR XL 照明技术相结合，XT:860M 将当今经过体积验证的 KrF 技术扩展到 110 nm 应用。

01. 生产力

在该系统中，具有可变频率控制的高线窄 40 W KrF 激光器与光学系统的高光传输相结合，以较低的运营成本提供每小时 240 300 毫米晶圆的生产吞吐量。

AERIAL II 照明器还可以通过变焦光学器件实现连续可变的常规和离轴照明，并且系统的高速双级技术有助于在广泛的抗蚀剂灵敏度范围内保持这些高通量水平。

02. 光学

TWINSCAN XT:860M 步进扫描系统包括一个可变的 0.80 NA 248 nm 860+ 投影镜头，可实现非常低的像差水平，以实现紧凑的焦平面和出色的失真控制，环形失真≤ 10 nm。

03. 成像性能

TWINSCAN XT:860M 步进扫描系统可实现≤12 nm 单机（专用卡盘）全晶圆覆盖覆盖，以及≤14 nm 匹配机（至参考晶圆）全晶圆覆盖覆盖. 该系统的 LithoGuide ILIAS 传感器允许客户更准确地设置系统并监控其成像参数。