ASML二手现货DUV光刻机XT:400L，分辨率350nm，产能230wph。
主要特点和优势
除了提高生产力之外，XT:400L 还引入了新的选项来帮助具有高拓扑结构（例如 3D-NAND）和小型 CD 和 CDU（例如逻辑或模拟应用中的关键层）的高级应用。
与之前的型号一样，XT:400L 是一款双级光刻系统，专为批量生产 200 毫米和 300 毫米晶圆而设计，分辨率低至 220 纳米。
高吞吐量和良率与快速的光罩交换时间和批次流相结合，以提供最低的运营成本。
01. 生产力
TWINSCAN XT:400L 能够实现每小时 ≥ 230 300 mm 晶圆（使用高分辨率选项时≥ 220）和每小时 ≥ 250 200 mm 晶圆的吞吐量。借助桥接工具，客户能够在不到一周的机器停机时间的情况下转换 200 毫米和 300 毫米之间的晶圆。
02. 光学
TWINSCAN XT:400L 包含一个可变的 0.65 NA 365 nm 投影镜头，带有先进的镜头操纵器和成像增强选项。客户可以实现 350 nm（标准）、280 nm（环形照明）或 220 nm（环形照明加高分辨率选项）的生产分辨率。
03. 成像性能
使用 TOP-2，XT:400 能够实现 ≤ 20 nm 的改进覆盖，适用于 3D-NAND 阶梯曝光等高级应用。扩展的调平范围允许更好的产品覆盖和聚焦性能，即使对于大型拓扑情况也是如此。
SMASH 传感器在使用不透明硬掩模时，使用两个额外的对准波长（近红外和远红外以及红色和绿色）实现更强大的标记集成。
液位传感器与 TWINSCAN 调平方法相结合，几乎消除了内部芯片和边缘芯片之间的差异，并确保整个 300 毫米晶圆的高良率。客户可以实现 350 nm（标准）、280 nm（环形照明）或 220 nm（环形照明加高分辨率选项）的生产分辨率。
