TWINSCAN XT:1000H 248 nm步进扫描系统是一种新型双级KrF光刻工具，具有业界最高的NA和生产率，设计用于200 mm和300 mm晶圆生产。
XT:1000H将可变0.93-NA卡尔蔡司Starlith 4X缩小镜头的成像能力与Air-E照明器技术相结合，将经过体积验证的KrF技术扩展到<80 nm分辨率。扩展关键KrF技术可降低客户的每层成本，同时受益于成熟的KrF处理。采用变频控制的高线宽窄化40-W KrF激光器，结合光学系统的高光传输，以尽可能最低的操作成本提供165 300 mm wph的生产吞吐量
XT:1000H是4X nm技术节点及以上的金属、通孔和植入层的理想选择，包括内存和逻辑应用。此外，还提供了与其他TWINSCAN KrF系统的图像匹配，以及与TWINSCAN ArF和KrF系统的出色叠加匹配，实现了在大批量制造环境中的无缝集成。
