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ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应

发布日期:2022-06-27

随着TWINSCAN XT:1400Ei的发布,使用ArF浸入式光刻生产65nm体积现在成为现实。此外,这款第三代“湿式”工具可以让你研究55纳米内存和45纳米逻辑节点,以及极化等先进技术。


XT:1400Ei拥有高性能蔡司1400i镜头,拥有从0.65到0.93,使其成为当时市场上最大的NA光刻工具。浸入镜头采用与Starlith1400干镜头相同的设计,保证现有的低像差和杂散光水平转移到浸入技术。此外,湿式系统增加了两倍自由度。

XT:1400Ei配备了ASML的Ultra-k1——一套成像增强硬件和软件,使更小的功能尺寸和更高的产量——以获得最大的性价比


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