随着TWINSCAN XT：1400Ei的发布，使用ArF浸入式光刻生产65nm体积现在成为现实。此外，这款第三代“湿式”工具可以让你研究55纳米内存和45纳米逻辑节点，以及极化等先进技术。
XT：1400Ei拥有高性能蔡司1400i镜头，拥有从0.65到0.93，使其成为当时市场上最大的NA光刻工具。浸入镜头采用与Starlith1400干镜头相同的设计，保证现有的低像差和杂散光水平转移到浸入技术。此外，湿式系统增加了两倍自由度。
XT：1400Ei配备了ASML的Ultra-k1——一套成像增强硬件和软件，使更小的功能尺寸和更高的产量——以获得最大的性价比。
