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Load-lock式Plasma CVD设备 CC-200/400

发布日期:2022-05-18

Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。

产品特性:

• 27.12MHz高密度等离子制程

• SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可对应SiO2膜

• 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能

• 可对应有机EL(OLED)的低温成膜用heater

• 使用Tray可搬送多种基板尺寸

• 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程(Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)

产品应用:

• 功率器件

• LED、LD、高速device等化合物相关

• 有机EL(OLED)开发

• 太阳电池开发

• MEMS

Load-lock式Plasma CVD设备 CC-200/400

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