Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
产品特性：
• 27.12MHz高密度等离子制程
• SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可对应SiO2膜
• 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
• 可对应有机EL（OLED）的低温成膜用heater
• 使用Tray可搬送多种基板尺寸
• 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）
产品应用：
• 功率器件
• LED、LD、高速device等化合物相关
• 有机EL（OLED）开发
• 太阳电池开发
• MEMS
