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高精密PECVD沉积设备系列

发布日期:2022-05-07

主要特色:

1.等离子增强型化学气相沉积设备

2.用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积

3.膜层应力稳定,可调范围广泛

4.可换托盘式,基板尺寸切换简便

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