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Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100

发布日期:2022-06-30

Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用,适用于12英寸晶圆。

特点:

能够通过超高真空共溅射控制薄膜成分。

高精度控制(0.1nm单位)膜厚和优异的均匀性(1σ<1%)。

兼容亚32nm节点或更小的镶嵌栅形成工艺。

(使用 PCM-PVD 方法进行高覆盖率沉积)。

通过使用紧凑型阴极降低材料成本。轻松更换材料。

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