Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用,适用于12英寸晶圆。
特点:
能够通过超高真空共溅射控制薄膜成分。
高精度控制(0.1nm单位)膜厚和优异的均匀性(1σ<1%)。
兼容亚32nm节点或更小的镶嵌栅形成工艺。
(使用 PCM-PVD 方法进行高覆盖率沉积)。
通过使用紧凑型阴极降低材料成本。轻松更换材料。
Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用,适用于12英寸晶圆。
能够通过超高真空共溅射控制薄膜成分。
高精度控制(0.1nm单位)膜厚和优异的均匀性(1σ<1%)。
兼容亚32nm节点或更小的镶嵌栅形成工艺。
(使用 PCM-PVD 方法进行高覆盖率沉积)。
通过使用紧凑型阴极降低材料成本。轻松更换材料。