13730999691
产品中心

Products Center

曝光显影设备 SUSS MA/BA6

发布日期:2022-05-07

The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模对准器被广泛认为是半导体微米研究和微系统生产的基准。凭借其创新设计,该平台可满足客户对精度、灵活性和低成本的需求。 在实验室环境中,在 MA/BA6上设计的工艺很容易转移到自动 SUSS 掩模对准器上进行批量生产

主要特色:

+顶面/底面/红外线对准

+定制照明可减少衍射曝光光学

+手动或自动台

+从 2mm到150mm 的晶圆或方形加工

+处理易碎、翘曲或不平整的晶片和碎 片

+顶部小至几毫米的碎片通过底边对齐

+高精度键合对准

+用于全晶圆纳米范围的压印光刻



其它产品
公司地址
青岛市博士后创新创业园6号楼
联系方式
售前热线:13730999691(微信同号)
免费热线:13730999691
咨询微信
产品中心服务项目 客户案例新闻资讯关于佳鼎联系我们