SUSS MA/BA6 掩模对准器被广泛认为是半导体微米研究和微系统生产的基准。凭借其创新设计，该平台可满足客户对精度、灵活性和低成本的需求。 在实验室环境中，在 MA/BA6上设计的工艺很容易转移到自动 SUSS 掩模对准器上进行批量生产。
主要特色：
+顶面/底面/红外线对准
+定制照明可减少衍射曝光光学
+手动或自动台
+从 2mm到150mm 的晶圆或方形加工
+处理易碎、翘曲或不平整的晶片和碎 片
+顶部小至几毫米的碎片通过底边对齐
+高精度键合对准
+用于全晶圆纳米范围的压印光刻
SUSS MA/BA6 掩模对准器被广泛认为是半导体微米研究和微系统生产的基准。凭借其创新设计，该平台可满足客户对精度、灵活性和低成本的需求。 在实验室环境中，在 MA/BA6上设计的工艺很容易转移到自动 SUSS 掩模对准器上进行批量生产。
主要特色：
+顶面/底面/红外线对准
+定制照明可减少衍射曝光光学
+手动或自动台
+从 2mm到150mm 的晶圆或方形加工
+处理易碎、翘曲或不平整的晶片和碎 片
+顶部小至几毫米的碎片通过底边对齐
+高精度键合对准
+用于全晶圆纳米范围的压印光刻
