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TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂胶显影机

发布日期:2022-05-19

日本东京电子公司生产的TEL牌涂胶显影机CLEANTRACK ACT8/12,是有着良好性能和可靠性的半导体微电子生产设备,是可对应200/300mm硅片生产的高端涂胶显影设备。

半导体制造设备涂胶显影机,应用于半导体制造的光刻工艺中,是感光剂(photoresist)的涂布(coat)和显影(develop)的设备。在该设备的涂胶(coat)单元中,硅片上面的感光剂首先被涂布,后被送到曝光设备里,通过光刻机将MASK上面图形投影到硅片上。

接下来,硅片回到涂胶显影机的显影单元中,通过对硅片表面感光胶喷涂显影液,使被感光部分的感光剂融化,这样wafer上就出现了凹凸的图形。经过各种工序重复,最终就形成了细微而复杂的集成电路。

设备各个单元功能说明

 涂胶显影机各单元功能说明


工艺技术指标与要求:

涂胶膜厚均匀性:3sigma 小于 10nm
显影条宽均匀性:(0.15μmCD 测试)3sigma 小于 10nm
腔体氨气浓度:<1ppb(FAB 环境小于 100ppb 条件下)
CHP 热板(如果有):50~200℃(±0.3℃)
产能:60WPH
与曝光机联机要求:需与曝光机联机作业(inline)。


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