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ULVAC爱发科多腔溅射设备Entron EX W300是在Al、Cu、高熔点金属布线工序中有很多实绩的单片式多室对应平台。适应下一代流程的SIS（Self-Ion Sputter）-PVD、金属CVD/ALD、DRY预处理模块的组合且可...
ULVAC爱发科二手叶片式溅射设备CERAUS ZX-1000与2011年投入使用，针对于8英寸晶圆使用。...
Novellus二手溅射设备Inova于1999年投入使用，适用于8英寸晶圆。...
爱发科ULVAC蒸发镀膜设备 蒸发台EBX-1000生产于2002年。 ...
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。...
ULVAC CS-200系列磁控溅射镀膜设备是一款追求低成本和用户友好操作的磁控溅射设备，通过增加配有机械手d装载固定腔室（Load lock chamber）使在上下基板时工艺腔室仍保持真空。...
centrotherm 卧式热反应系统HORICOO 200 是大量现场验证及具有多功能的卧式炉系统，基于客户需求可灵活选择大、中批量生产以及研发类型机台。为AP、LP和PECVD等多种工艺应用提供了可靠的...
应用范围：LED、Laser Diode、MEMS、Power MoS、Power Chip等等 蒸镀设备型式： 1. 金属电子束蒸镀设备 2. 金属热阻式蒸镀设备 3. 电子束/热阻混合式蒸镀设备 4. ITO电子束蒸镀设备 5. 双电子束...
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