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ASML预备大量出货,并研发2nm光刻机

发布日期:2022-06-29

近日,媒报道称,截至 2022 年第一季度,ASML已出货136个EUV系统。


根据ASML 在一季度财务会议上披露的数据,ASML的目标是在2022年出货55台EUV光刻系统,并到2025年实现(最多)90台工具的计划。ASML同时还承认, 90台可能超过2025年的实际需求,不过这样做也是为满足2030年1万亿美元半导体行业需求量。

ASML光刻机


按照官方的说法,新型号的EUV光刻机系统 NXE:3600D将能达到93%的可用性,这将让其进一步接近DUV光刻机(95%的可用性)。


数据显示,NXE:3600D系统每小时可生产160个晶圆 (wph),速度为30mJ/cm,这比 NXE:3400C高18%。二正在开发的 NXE:3800E系统最初将以30mJ/cm的速度提供大过195wph的产能,并在吞吐量升级后达到220wph。


据介绍,NXE:3600E 将在像差、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改进,而在0.33 NA的EUV光刻机领域,ASML路线图包括到2025年左右推出吞吐量约为220wph的NXE:4000F。

ASML光刻机


对于0.55 NA的光刻机,需要更新的不但是其光刻机系统,同时还需要在掩模、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面齐头并进,新设备的功能才能实现。


按照之前的说法,ASML正在研发新款光刻机,价值高达4亿美元该。型机预计2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出货。


这款机器可能指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA),Intel是全球第一个对该机型下单的公司。所谓High-NA也就是高数值孔径,2nm之后的节点都得依赖它实现。



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