SCREEN单片式半导体清洗设备SU 3100具有8个内置腔室，吞吐量能够达到300wph。
在日益小型化的半导体行业中，线宽窄至65纳米的器件的大规模生产已经在进行中，于2008年开始的45纳米加工设备的开发正在快速进行。由于这些原因，半导体制造商对占所有半导体制造工艺近四分之一的清洁工艺感到担忧，他们正想办法使用更有效、更高效的清洁设备。尤其是满足需求的单晶圆清洗设备每年都在增加。
新型SU-3100旨在适应半导体行业的整体趋势。新型SU-3100是久经验证的SU-3000技术的一种改进，它拥有更高的晶圆传输速度，从而提高了清洗性能和生产效率。其新平台可容纳多达8个内置腔室，新开发的高速晶圆传输系统使SU-3100每小时可处理多达300个晶圆。SCREEN还为不同用途开发了2种新型的多处理室，使SU-3100能够满足各种客户的需求，包括对当今更为精细的图案进行的高级处理。SU-3100还具有新的DDI（动态直接喷射）混合系统，该系统可实现高精度的流量控制，使SU-3100适用于当今日益多样化的工艺，并可提高加工效率。此外，根据设备的预期用途和所需的化学溶液，客户甚至可以选择一体式系统，无需单独配置化学溶液柜。
