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二手Nikon ArF浸入式扫描 光刻机NSR-S631E

发布日期:2022-06-08

尼康公司(东京港区总裁 Kazuo Ushida)发布了最新一代尼康 ArF 浸入式扫描仪 NSR-S631E。该光刻系统专为大批量半导体制造中的 7 纳米节点工艺而开发。它支持多重图案* ,并具有经过验证的Streamlign平台(也用于著名的 NSR-S630D)的高精度和出色的生产力。NSR-S631E 可满足下一代客户的制造要求,进一步提高覆盖和产量,这在多重图案化工艺中至关重要。

NSR-S631E通过使用新型投影镜头以及改进的对准系统标记检测和测量,提供 2.3 nm 或以下的混合匹配覆盖 (MMO * )。S631E 还可以通过每小时高达 270(96 次)晶圆的生产能力最大限度地提高晶圆厂的生产力。

Nikon ArF浸入式光刻机NSR-631E

主要特征

1.配备Streamlign平台

  • 鸟瞰控制:显着提高叠加精度的测量系统

    结合用于晶圆载物台位置测量的编码器和干涉仪的混合系统,分划板载物台位置使用 2D 编码器进行测量。这使得每个平台的位置测量不受空气波动的影响,从而提高了叠加精度。

  • 流对齐:可显着提高吞吐量的测量技术

    通过将现场图像对准 (FIA) 显微镜的数量增加到五个(五眼 FIA)*,可以在更短的时间内执行对准测量。五眼 FIA 可将吞吐量损失降至最低,即使必须测量多个点(几乎等于全部镜头数量)也是如此。

  • Modular 2 (Modular Squared) Structure:模块化结构,提高可维护性

    分层模块化结构意味着在客户现场启动设备所需的时间更少,并简化了系统维修。这大大提高了可维护性。

  • *五眼 FIA:改进型的 FIA,有 5 个对准显微镜,而不是传统的 1 个。

2. 提高产品性能

S631E 采用新开发的投影镜头设计,提供更好的像差校正功能,以确保最佳的成像性能。此外,创新的测量光学系统提高了产品的对准和聚焦精度。

Nikon ARF光刻机NSR-631E参数图

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