ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1100采用193nmArF曝光光源，针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。
AT:1100具有12"扫描仪。AT:1100是一个193nm波长系统，具有业界最高的数值孔径ArF透镜(NA=0.75)。建立在ASML于2000年7月推出的成功的300mm TWINSCAN双级平台之上。AT:1100以20mJ/cm2的剂量实现每小时93个晶圆的吞吐量。通过分离对齐和曝光操作，可以在不影响吞吐量的情况下对整个300mm晶圆进行更广泛和准确的对齐和晶圆表面高度映射.这种计量精度的提高对于在全吞吐量下提供100nm关键尺寸控制和晶圆上小于20nm的覆盖层至关重要。AT:1100引入了新的4kHz ArF激光技术，这有助于其领先的生产力优势。
AT:1100引入了新的4kHzArF激光技术，这有助于其领先的生产力优势。AT:1100专为与ASML的TWINSCAN产品系列（包括248nm深紫外系统AT:750和i-line系统AT:400）无缝混搭操作而设计，从而确保最低成本即使采用先进的工艺技术，每个级别。TWINSCAN平台允许使用轨道处理设备和300毫米自动材料处理系统进行左手或右手配置，以实现最佳的晶圆厂布局。
