ASML ArF光刻机AT:1200作为其综合成像设施的一部分，SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪；（0.85 NA）。该工具与 SUNY Poly 的所有工具集一样，可用于对 300mm 晶圆进行成像，具有出色的晶圆均匀性，同时每小时可交付约 100 多个晶圆。尽管该工具是为满足 90nm 节点的需求而制造的，但 SUNY Poly 团队经常展示使用该工具打印低于 90nm 特征的能力。
ASML ArF光刻机AT:1200作为其综合成像设施的一部分，SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪；（0.85 NA）。该工具与 SUNY Poly 的所有工具集一样，可用于对 300mm 晶圆进行成像，具有出色的晶圆均匀性，同时每小时可交付约 100 多个晶圆。尽管该工具是为满足 90nm 节点的需求而制造的，但 SUNY Poly 团队经常展示使用该工具打印低于 90nm 特征的能力。
