ASML KRF光刻机PAS5500/800提供0.80 数值孔径 (NA)。该系统的分辨率为 120 纳米，将用于批量生产 256 MB DRAM 和其他先进的存储设备。
“PAS 5500/800 将使这些领先的制造商能够将其对成熟 KrF 技术的投资扩展到新一代内存产品，”ASML 销售执行副总裁 Dave Chavoustie 说。“通过展示我们扩展 PAS 5500 平台和提供新工具的能力，我们的系统继续提供非常高的生产力和低拥有成本。”
PAS 5500/800 于 2001 年 1 月发布，其吞吐量规格为每小时 115 200 毫米晶圆。该系统专为当今最先进 IC 的大批量处理以及下一代逻辑、ASIC和先进存储设备的研发和试生产而设计。PAS 5500/800 将 Carl Zeiss StarLith800 0.8 NA、4X 缩小镜头的成像能力与 AERIAL II 照明技术相结合，可在关键尺寸和电路设计特征范围内优化工艺范围。该系统配备了 ASML的专利 ATHENA 晶圆对准系统和新开发的掩模版蓝色对准，允许光化波长掩模版对准，使单机重叠精度低于20纳米。新的液位传感器提高了聚焦精度，以增强过程控制和产量，特别是对于边缘模具。客户可以从三大领先的 20 瓦 KrF 激光器供应商中进行选择。ASML 对激光源的实施包括可变激光频率控制，结合通过照明和投影光学器件的高光传输，确保更高的生产率和更低的运营成本。
