ASML KrF光刻机PAS5500/850C 248nm步进-扫描系统可实现110nm的批量生产。自从PAS5500/850首次引入以来，PAS5500/850系列已经成为110nm逻辑和110nm内存应用的全球标准。PAS5500/850C可以配置许多选项，使在制造中实现超低k1，扩展PAS5500/850C的应用远低于110nm。
主要功能和优点
可变0.8-NA深紫外投影透镜
生产分辨率低至110 nm。
天线II照明器
在最大吞吐量的照明模式下提供最大的灵活性。
PAS 5500步进扫描车身
与i-line和193 nm Step和扫描工具的通用性，用于经济混合和匹配。
雅典娜高级校准与十字线蓝色校准相结合
提高了各种工艺的对准精度。随着时间的推移，性能极为稳定。
包括20 W KrF激光技术和可变激光频率控制
将高激光功率与高效利用激光脉冲相结合，实现高吞吐量
激光操作成本。
ARMS批量流式处理
提供连续流程制造
参数信息：
