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HITACHI二手翻新现货刻蚀机M308 AT采用金属蚀刻工艺,针对于8英寸(200mm)尺寸的晶圆处理。...
AMAT等离子蚀刻机AME 8100用于反应离子氧化物、氮化物和抗蚀剂除渣的蚀刻。系统是配置为处理4英寸、5英寸或6英寸晶圆。系统是完整并处于良好的运行状态,附带大量备件。...
AMAT 二手刻蚀设备Centura 5200生产于1998年,针对于6-8英寸JMF形晶圆进行刻蚀处理。...
AMAT 刻蚀设备CENTURA DPS 2,具有4个作业腔室,3个DPS II腔室和一个Axiom室,采用ASHERS过程工艺,针对于12英寸晶圆进行高效处理。...
UNITY™ Me 在 200 毫米晶圆内实现等离子蚀刻工艺的卓越性价比,提供卓越的可靠性和生产力。近年来,该系统通过演示用于尖端功率器件制造的高性能 Si/SiC 沟槽蚀刻工艺,获得了大量好...
TEL刻蚀系统Certas LEAGA™ 是一种环保、高通量的气体化学蚀刻系统,专为 300 毫米晶圆而设计,无需使用液体即可提供表面蚀刻和清洁。...
TEL刻蚀系统Tactras™ 是一种高度可靠的 300 毫米等离子蚀刻系统,可提高蚀刻工艺的工作效率。...
TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0于2012年开始使用。...
Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP于2010年投入使用,针对于12英寸晶圆的Light Etch工艺。...
Mattson二手刻蚀设备ParadigmE于2012年开始使用,针对于12寸晶圆的刻蚀处理。...
Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P与1995年投入使用,针对于8英寸晶圆的刻蚀工艺。...
Axcelis二手刻蚀系统Integra于2012年投入使用,针对于12英寸晶圆的蚀刻处理。...
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