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ASML二手现货DUV光刻机XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，产能240wph。...
ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，产能205wph...
asml二手现货DUV光刻机XT:1460K采用193nmARF光源，分辨率65nm，产能205wph。...
ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，产能300wph。...
TWINSCAN NXT:2050i 是最先进的浸没式光刻系统设计与先进的镜头设计相结合的地方，其数值孔径 (NA)为 1.35，是目前半导体行业中最高的...
TWINSCAN NXT:2000i 是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，分辨率38nm，专为在先进节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。...
尼康Nikon二手翻新i-line光刻机NSR-4425i生产于1994年，分辨率700nm。...
尼康Nikon KrF光刻机NSR-S201A生产于1995年，分辨率≦250 nm，是世界上第一台扫描仪。...
尼康Nikon KrF光刻机NSR-2205EX14C生产于1997年，采用248nmKrF曝光光源，分辨率50nm。...
尼康Nikon i-line光刻机NSR-2205i14E，生产于1997年，分辨率350nm，产能103wph。...
Nikon ArF光刻机 NSR-S305B出产于1999年，分辨率110nm。...
Nikon KrF光刻机NSR-S205C于2000年在新加坡生产，分辨率≤120nm。...
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