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佳能KrF光刻机FPA-6300ESW二手翻新现货
佳能KrF光刻机FPA-6300ESW二手翻新现货

佳能KrF光刻机FPA-6300ESW二手翻新现货

佳能KrF光刻机FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源,分辨率130nm,​专为12英寸晶圆设计。...

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SUSS苏斯MA/BA Gen4 系列掩膜和键合对准器
SUSS苏斯MA/BA Gen4 系列掩膜和键合对准器

SUSS苏斯MA/BA Gen4 系列掩膜和键合对准器

斯公司的 MA/BA 4 代系列是最新一代的半自动光刻和键合对准机,并引进了新的平台系统。新平台主要是配置不同。它由标准款 MA/BA 4 代与用于先进高端工艺的扩展 MA/BA 4 代专业款组成。...

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SUSS二手 掩膜对准器MA12
SUSS二手 掩膜对准器MA12

SUSS二手 掩膜对准器MA12

MA12是专为对准和曝光300毫米以下方形衬底和晶圆而设计的,适合于工业研究和生产。凭借灵活处理和过程控制解决方案,本设备主要用于先进封装,包括3D圆晶级芯片尺寸封装, 以及开发...

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SUSS 掩模对准器 MA100/150e Gen2
SUSS 掩模对准器 MA100/150e Gen2

SUSS 掩模对准器 MA100/150e Gen2

SUSS MicroTec为热门化合物半导体工艺专门设计了一款新型光刻平台:MA100/150e Gen2。化合物半导体工艺,是指诸如高亮发光二极管(HB-LEDs)、功率器件、RF-MEMS等方面的半导体应用。MA100/1...

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SUSS 二手掩模对准器 MA200 Gen3
SUSS 二手掩模对准器 MA200 Gen3

SUSS 二手掩模对准器 MA200 Gen3

SUSS MA200 3代光刻机专为大批量生产而设计,适用于200毫米以下晶圆和方形衬底的自动化加工。本系统集全场光刻技术与多种创新功能于一身。使其成为众多应用的首选系统,例如生产厚...

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ASML 二手翻新光刻机XT:1400E
ASML 二手翻新光刻机XT:1400E

ASML 二手翻新光刻机XT:1400E

ASML 二手翻新现货ARF光刻机XT:1400E适用于300nm大小的晶圆,产能180wph。...

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SUSS二手现货MA300掩模对准器
SUSS二手现货MA300掩模对准器

SUSS二手现货MA300掩模对准器

SUSS的第二代MA300是一个用于300毫米和200毫米晶圆的高度自动化的掩模对准光刻平台,专为三维封装、晶圆凸点和晶圆级封装应用而设 计,同时也可以用于图形尺寸5微米到100微米之间的其...

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ASML二手翻新现货浸入式光刻机NXT:1950i
ASML二手翻新现货浸入式光刻机NXT:1950i

ASML二手翻新现货浸入式光刻机NXT:1950i

ASML 通过将 NXT:1950i 上的系统吞吐量提高 15%–20% 来解决光刻成本问题。性能增强包 PEP NXT:1950i 包括硬件和软件改进,将 NXT:1950i 的产量从每小时 175 片 125 片的晶圆增加到 200 片,甚至每小...

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ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci
ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci

ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci

ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci,采用193nmARF曝光光源,分辨率38nm,产能250wph。...

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ASML二手现货i-line光刻机XT:400L
ASML二手现货i-line光刻机XT:400L

ASML二手现货i-line光刻机XT:400L

ASML二手现货DUV光刻机XT:400L,分辨率350nm,产能230wph。...

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ASML二手现货DUV光刻机XT:860M
ASML二手现货DUV光刻机XT:860M

ASML二手现货DUV光刻机XT:860M

ASML二手现货DUV光刻机XT:860M,采用248nmKRF光源,分辨率110nm,产能240wph。...

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ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K
ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K

ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K

ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K,采用248nmKRF曝光光源,分辨率80nm,产能205wph...

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