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MIDAS二手光刻机MDA-4000
MIDAS二手光刻机MDA-4000

MIDAS二手光刻机MDA-4000

MIDAS二手光刻机MDA-4000由韩国迈斯达公司与2005年生产。...

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ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750
ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750

ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750

ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750是248nm深紫外系统,保证130nm分辨率和20nm覆盖精度,并具有可在0.50到0.70之间任意调节的数值孔径。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1200
ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1200

ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1200

ASML ArF光刻机AT:1200​作为其综合成像设施的一部分,SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪;(0.85 NA)。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100
ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100

ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100

ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100采用193nmArF曝光光源,针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D,采用193nmArF曝光光源,针对于12英寸晶圆处理。...

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ABM,Inc.全自动双面对准光刻机
ABM,Inc.全自动双面对准光刻机

ABM,Inc.全自动双面对准光刻机

ABM,Inc.全自动双面对准光刻机,正面对准精度±1um,对准光学系统:电控双目镜双视场CCD系统,两组目镜有效视场分离可调节间距10mm-150mm紫外波长:UV400...

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ABM,Inc.全自动正面对准光刻机
ABM,Inc.全自动正面对准光刻机

ABM,Inc.全自动正面对准光刻机

ABM,Inc.全自动正面对准光刻机,正面对准精度±1um,对准光学系统:电控双目镜双视场CCD系统,两组目镜有效视场分离可调节间距10mm-150mm紫外波长:UV400...

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ABM,Inc.双面对准(BSV)光刻机Sa系列
ABM,Inc.双面对准(BSV)光刻机Sa系列

ABM,Inc.双面对准(BSV)光刻机Sa系列

ABM,Inc.双面对准(BSV)光刻机Sa系列,曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s); 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环;...

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ABM,Inc.正面对准(TSV)光刻机
ABM,Inc.正面对准(TSV)光刻机

ABM,Inc.正面对准(TSV)光刻机

曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s); 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环; 声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标; 有安全保护装置的温度及其气...

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佳能 i-line步进器光刻机FPA-3030iWa
佳能 i-line步进器光刻机FPA-3030iWa

佳能 i-line步进器光刻机FPA-3030iWa

FPA-3030iWa 支持直径为 200 毫米或更小的较小基板。支持从 50 毫米(2 英寸)到 200 毫米(8 英寸)的各种晶圆尺寸。...

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佳能二手i-line步进式光刻机FPA-3030i5a
佳能二手i-line步进式光刻机FPA-3030i5a

佳能二手i-line步进式光刻机FPA-3030i5a

FPA-3030i5a 支持直径为 200 毫米或更小的较小基板。支持从 50 毫米(2 英寸)到 200 毫米(8 英寸)的各种晶圆尺寸。...

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佳能i-line步进式光刻机FPA-3030i5+
佳能i-line步进式光刻机FPA-3030i5+

佳能i-line步进式光刻机FPA-3030i5+

FPA-3030i5+步进器为IoT和MEMS制造商处理各种基板和材料提供了灵活性。FPA-3030i5+步进器能够提供350nm的成像分辨率,同时保持小于或等于40nm的叠加精度和等于或超过每小时104个晶圆的吞吐量...

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