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novellus化学气相沉积mocvd设备 vector express，购买于2004年，针对12英寸晶圆设计使用。...
ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10采用DARC流程工艺，针对于8英寸晶圆的处理，现货供应...
ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300生产于2003年，针对12寸（300nm）晶圆处理。...
AMAT等离子化学气相沉积PECVD设备producer se，生产于2003年，采用PETEOS工艺，针对12英寸（300mm）晶圆处理。...
AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT，针对于300nm晶圆，主机类型为Centura AP，工艺采用WCVD，拥有4个腔室，3个装载端口。...
Novellus 二手翻新 12英寸 现货Asher设备 刻蚀系统Gamma2130，属Asher类设备，针对于12英寸(300mm)晶圆处理。...
尼康的这款i-line光刻机NSR 2205i12D。分辨率≦350 nm，曝光光源i-line（365nm波长），缩小比1:5，曝光场22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 对准精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。...
ASML 二手翻新DUV光刻机生产于2006年，可针对于300mm尺寸的晶圆进行处理。...
TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具，设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。...
TWINSCAN XT:400G 365 nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具，专为350 nm分辨率的300 mm晶圆批量生产而设计...
TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。...
XT:1450 是先进的干式 ArF 批量生产系统。它提高了 IC 制造商的所有权价值，在批量制造条件下每小时可生产 143 片晶圆。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增强的镜头像差控制和增强的叠加...
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