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ASML 二手翻新光刻机XT:1400E
ASML 二手翻新光刻机XT:1400E

ASML 二手翻新光刻机XT:1400E

ASML 二手翻新现货ARF光刻机XT:1400E适用于300nm大小的晶圆,产能180wph。...

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SUSS二手现货MA300掩模对准器
SUSS二手现货MA300掩模对准器

SUSS二手现货MA300掩模对准器

SUSS的第二代MA300是一个用于300毫米和200毫米晶圆的高度自动化的掩模对准光刻平台,专为三维封装、晶圆凸点和晶圆级封装应用而设 计,同时也可以用于图形尺寸5微米到100微米之间的其...

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二手现货 双电子束电镜 FEI XL830
二手现货 双电子束电镜 FEI XL830

二手现货 双电子束电镜 FEI XL830

全200mm晶片、150mm晶片、晶片碎片和短柱安装样品。Loadlock允许样本传输时间<2min;...

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ASML二手翻新现货浸入式光刻机NXT:1950i
ASML二手翻新现货浸入式光刻机NXT:1950i

ASML二手翻新现货浸入式光刻机NXT:1950i

ASML 通过将 NXT:1950i 上的系统吞吐量提高 15%–20% 来解决光刻成本问题。性能增强包 PEP NXT:1950i 包括硬件和软件改进,将 NXT:1950i 的产量从每小时 175 片 125 片的晶圆增加到 200 片,甚至每小...

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ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci
ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci

ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci

ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci,采用193nmARF曝光光源,分辨率38nm,产能250wph。...

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ASML二手现货i-line光刻机XT:400L
ASML二手现货i-line光刻机XT:400L

ASML二手现货i-line光刻机XT:400L

ASML二手现货DUV光刻机XT:400L,分辨率350nm,产能230wph。...

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ASML二手现货DUV光刻机XT:860M
ASML二手现货DUV光刻机XT:860M

ASML二手现货DUV光刻机XT:860M

ASML二手现货DUV光刻机XT:860M,采用248nmKRF光源,分辨率110nm,产能240wph。...

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ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K
ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K

ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K

ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K,采用248nmKRF曝光光源,分辨率80nm,产能205wph...

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ASML二手现货DUV光刻机XT:1460K
ASML二手现货DUV光刻机XT:1460K

ASML二手现货DUV光刻机XT:1460K

asml二手现货DUV光刻机XT:1460K采用193nmARF光源,分辨率65nm,产能205wph。...

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ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470
ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470

ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470

ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470采用193nmARF光源,分辨率57nm,产能300wph。...

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ASML二手翻新DUV光刻机NXT:2050i现货
ASML二手翻新DUV光刻机NXT:2050i现货

ASML二手翻新DUV光刻机NXT:2050i现货

TWINSCAN NXT:2050i 是最先进的浸没式光刻系统设计与先进的镜头设计相结合的地方,其数值孔径 (NA)为 1.35,是目前半导体行业中最高的...

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ASML 二手翻新 DUV光刻机TWINSCAN NXT:2000i
ASML 二手翻新 DUV光刻机TWINSCAN NXT:2000i

ASML 二手翻新 DUV光刻机TWINSCAN NXT:2000i

TWINSCAN NXT:2000i 是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,分辨率38nm,专为在先进节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。...

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