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ASML二手翻新i-line光刻机PAS5500/150
ASML二手翻新i-line光刻机PAS5500/150

ASML二手翻新i-line光刻机PAS5500/150

PAS 5500/150对于150毫米晶圆,该系统每小时可生产超过110片晶圆,对于200毫米晶圆,每小时可生产超过80片晶圆-生产率规格比之前的PAS 5500/100系统高10%。...

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ASML二手ARF光刻机PAS5500/1150C
ASML二手ARF光刻机PAS5500/1150C

ASML二手ARF光刻机PAS5500/1150C

PAS 5500/1150C 193nm步进扫描系统能够实现成本效益的90nm ArF批量生产。PAS 5500/1150C是90nm临界和非临界ArF层的解决方案。PAS 5500/1150C可以配置许多选项,使制造中实现低成本,将PAS5500/1150C的应...

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ASML二手ARF光刻机PAS 5500/1100B翻新现货
ASML二手ARF光刻机PAS 5500/1100B翻新现货

ASML二手ARF光刻机PAS 5500/1100B翻新现货

ASML ARF光刻机PAS 5500/1100B支持 8" / 200m 工艺节点。ASML光刻机5500/1100B使用 ASML 的专利Athena晶圆对准系统,配备193nm ArF激光器和0.75 NA,能够达到 100nm以下的分辨率。 ASML ARF光刻机5500/1100B 的应...

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ASML i-line步进式光刻机PAS 5500/100D二手翻新修改现货
ASML i-line步进式光刻机PAS 5500/100D二手翻新修改现货

ASML i-line步进式光刻机PAS 5500/100D二手翻新修改现货

PAS5500/100Di线步进设计用于0.4µm的大规模生产,在其可变数值孔径(NA)保持最大功能性的同时实现极高的吞吐量。该步进器通过优化关键工艺层的聚焦深度和分辨率,扩展了i-line制造多代亚...

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ASML二手翻新i-line光刻机PAS 5000/40
ASML二手翻新i-line光刻机PAS 5000/40

ASML二手翻新i-line光刻机PAS 5000/40

ASML i-line光刻机PAS5000/40使用0.40NA i-line 镜头,像场直径为21.1mm。该步进器使用i-line工艺针对 0.7 微米以下的生产分辨率进行了优化。...

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ASML二手现货i-line光刻机PAS 2500/40
ASML二手现货i-line光刻机PAS 2500/40

ASML二手现货i-line光刻机PAS 2500/40

ASML二手现货i-line光刻机PAS 2500/40适用于6英寸晶圆,采用365nm的i-line曝光光源。...

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ASML二手翻新现货全自动光刻机PAS2000
ASML二手翻新现货全自动光刻机PAS2000

ASML二手翻新现货全自动光刻机PAS2000

PAS 2000是一种全自动晶圆步进机,旨在以快速吞吐量和维持正常运行时间为每个晶圆生产尽可能多的芯片,这些因素对于高效生产集成电路至关重要。在1.0和1.3微米之间的CD 上提供高曝光...

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MIDAS二手光刻机MDA-4000
MIDAS二手光刻机MDA-4000

MIDAS二手光刻机MDA-4000

MIDAS二手光刻机MDA-4000由韩国迈斯达公司与2005年生产。...

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ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750
ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750

ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750

ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750是248nm深紫外系统,保证130nm分辨率和20nm覆盖精度,并具有可在0.50到0.70之间任意调节的数值孔径。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1200
ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1200

ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1200

ASML ArF光刻机AT:1200​作为其综合成像设施的一部分,SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪;(0.85 NA)。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100
ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100

ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100

ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100采用193nmArF曝光光源,针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。...

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ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D

ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D,采用193nmArF曝光光源,针对于12英寸晶圆处理。...

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