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SAMCO二手ICP刻蚀机RIE-230iP现货供应
SAMCO二手ICP刻蚀机RIE-230iP现货供应

SAMCO二手ICP刻蚀机RIE-230iP现货供应

SAMCO ICP刻蚀机RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式,高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电极,高效地产生稳定的高密度...

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SAMCO RIE等离子蚀刻设备RIE-200C
SAMCO RIE等离子蚀刻设备RIE-200C

SAMCO RIE等离子蚀刻设备RIE-200C

RIE-200C是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 "RIE-10NR "的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手,P...

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ASMCO二手翻新RIE等离子蚀刻系统 RIE-200NL
ASMCO二手翻新RIE等离子蚀刻系统 RIE-200NL

ASMCO二手翻新RIE等离子蚀刻系统 RIE-200NL

RIE等离子蚀刻系统 RIE-200NL是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统,它提高了工艺的可重复性,并允许腐蚀性气体化学。完全优化的工艺室设计可在ø8 "晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供优...

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SAMCO二手等离子刻蚀机RIE-300NR
SAMCO二手等离子刻蚀机RIE-300NR

SAMCO二手等离子刻蚀机RIE-300NR

SAMCO等离子刻蚀机RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统,适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆(ø3"×12,ø4"×8等),具有优异的均匀性。该系统的设计旨在最大限度地减少工厂空间需求,提...

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GASONICS/NOVELLUS二手等离子刻蚀系统L3510
GASONICS/NOVELLUS二手等离子刻蚀系统L3510

GASONICS/NOVELLUS二手等离子刻蚀系统L3510

Gasonics等离子刻蚀系统L3510 设计用于半导体晶圆的灰化和清洗。Gasonics等离子刻蚀系统L3510 通过产生单原子氧(一种活性物质)来做到这一点,它与晶圆表面的光刻胶发生化学反应。...

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LAM RESEARCH二手刻蚀系统TCP 9400
LAM RESEARCH二手刻蚀系统TCP 9400

LAM RESEARCH二手刻蚀系统TCP 9400

LAM RESEARCH刻蚀系统TCP 9400最初设计用于生产多晶硅蚀刻,可批量处理6英寸晶圆...

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LAM RESEARCH等离子刻蚀系统RAINBOW 4420
LAM RESEARCH等离子刻蚀系统RAINBOW 4420

LAM RESEARCH等离子刻蚀系统RAINBOW 4420

LRC Rainbow 蚀刻机专为连续操作而设计,由计算机控制,允许手动或自动控制。Lam Rainbow 44XX 系列可用于硅化钨、氮化硅、多晶硅、氧化物、结晶硅等。...

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HITACHI二手翻新现货刻蚀机M308 AT
HITACHI二手翻新现货刻蚀机M308 AT

HITACHI二手翻新现货刻蚀机M308 AT

HITACHI二手翻新现货刻蚀机M308 AT采用金属蚀刻工艺,针对于8英寸(200mm)尺寸的晶圆处理。...

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AMAT二手等离子刻蚀机AME 8100
AMAT二手等离子刻蚀机AME 8100

AMAT二手等离子刻蚀机AME 8100

AMAT等离子蚀刻机AME 8100用于反应离子氧化物、氮化物和抗蚀剂除渣的蚀刻。系统是配置为处理4英寸、5英寸或6英寸晶圆。系统是完整并处于良好的运行状态,附带大量备件。...

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AMAT二手刻蚀机CENTURA 5200
AMAT二手刻蚀机CENTURA 5200

AMAT二手刻蚀机CENTURA 5200

AMAT 二手刻蚀设备Centura 5200生产于1998年,针对于6-8英寸JMF形晶圆进行刻蚀处理。...

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二手AMAT刻蚀机CENTURA DPS 2
二手AMAT刻蚀机CENTURA DPS 2

二手AMAT刻蚀机CENTURA DPS 2

AMAT 刻蚀设备CENTURA DPS 2,具有4个作业腔室,3个DPS II腔室和一个Axiom室,采用ASHERS过程工艺,针对于12英寸晶圆进行高效处理。...

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TEL二手刻蚀系统UNITY Me
TEL二手刻蚀系统UNITY Me

TEL二手刻蚀系统UNITY Me

UNITY™ Me 在 200 毫米晶圆内实现等离子蚀刻工艺的卓越性价比,提供卓越的可靠性和生产力。近年来,该系统通过演示用于尖端功率器件制造的高性能 Si/SiC 沟槽蚀刻工艺,获得了大量好...

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