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NSR-S609B（分辨率 ≦ 55 nm），用于大批量生产的 ArF 浸入式扫描仪，NA 1.07（世界上第一台突破 NA 1.0 阈值的扫描仪）...
尼康Nikon i-line步进式光刻机NSR-SF140生产于2005年，分辨率≤280nm。...
尼康Nikon arf光刻机NSR-S610C，生产于2006年，分辨率小于等于45nm。...
NSR-SF155i线步进器适用于生产各种半导体器件。NSR-SF155采用了天钩技术，使投影镜头能够悬挂在身体和地板上，大大降低了振动水平。随着晶圆级速度的提高，NSR-SF155为300mm晶圆提供超过...
Nikon KrF扫描光刻机NSR-S210D产能达到176wph，对应110nm以下设备的量产...
尼康基于开创性的Streamlign 平台开发了 NSR-S620D，不仅可以实现 32 nm 的双图案光刻，还可以为下一代应用提供可扩展性。随后是进化型 NSR-S621D、S622D、S630D 和 S631E 浸入式扫描仪，适用于低...
NSR-S320F 是一款能够满足这种尖端设备需求的扫描仪。通过采用在我们的浸入式扫描仪中得到验证的 Streamlign 平台，可确保尽早实现稳定操作和高生产率。与尼康之前的光刻机相比，吞吐...
Nikon ArF浸没式光刻机NSR-S621D经过验证的Streamlign平台，实现了2nm的极高叠印精度和200wph的吞吐量，并在硬件和软件方面进一步改进，为客户的生产线提供最佳和高效的解决方案。...
NSR-S630D通过提高投影镜头性能、使用光栅尺位置测量编码器以及改进温度空调系统，实现了更高的吞吐量以及MMO * 2的进一步改进。以2.5纳米以下的MMO和每小时250张（96次）的吞吐量实现...
Nikon ArF浸入式扫描 光刻机NSR-S631E光刻系统于2016年专为大批量半导体制造中的 7 纳米节点工艺而开发。...
NSR-S635EArF浸入式光刻机，集成内联对准站(iAS)，用于大容量5nm节点应用程序制造。采用流型平台效率，NSR-S635E在2.1nmMMO下提供了更好的覆盖精度，同时提供了超过275WPH（96次）的显著吞吐...
NSR-S622DArF浸没式扫描仪是通过进一步提高已验证的流线平台的准确性和生产力，用于20nm以下的高容量多模式应用。...
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