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Novellus二手溅射设备Inova
Novellus二手溅射设备Inova

Novellus二手溅射设备Inova

Novellus二手溅射设备Inova于1999年投入使用,适用于8英寸晶圆。...

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Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100
Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100

Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100

Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用,适用于12英寸晶圆。...

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TEL二手Furnace 炉设备 Indy-B
TEL二手Furnace 炉设备 Indy-B

TEL二手Furnace 炉设备 Indy-B

TEL二手Furnace 炉设备 Indy-B于2012年开始投入使用,采用DCS Nit工艺,适用于12英寸晶圆。...

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TEL 二手Furnace设备 Indy-A
TEL 二手Furnace设备 Indy-A

TEL 二手Furnace设备 Indy-A

TEL 二手Furnace设备 Indy-A采用DCS Nit工艺,于2005年投入使用,适用于12英寸晶圆。...

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TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0
TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0

TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0

TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0于2012年开始使用。...

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Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP
Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP

Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP

Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP于2010年投入使用,针对于12英寸晶圆的Light Etch工艺。...

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Mattson二手刻蚀设备ParadigmE
Mattson二手刻蚀设备ParadigmE

Mattson二手刻蚀设备ParadigmE

Mattson二手刻蚀设备ParadigmE于2012年开始使用,针对于12寸晶圆的刻蚀处理。...

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Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P
Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P

Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P

Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P与1995年投入使用,针对于8英寸晶圆的刻蚀工艺。...

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Axcelis二手刻蚀系统Integra
Axcelis二手刻蚀系统Integra

Axcelis二手刻蚀系统Integra

Axcelis二手刻蚀系统Integra于2012年投入使用,针对于12英寸晶圆的蚀刻处理。...

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AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler
AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler

AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler

AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler,于2010年开始使用,采用氧化物刻蚀法,针对12英寸晶圆进行处理。...

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TEL 二手气相化学沉积CVD设备triase
TEL 二手气相化学沉积CVD设备triase

TEL 二手气相化学沉积CVD设备triase

TEL气相化学沉积设备,CVD设备triase所有这些型号都具有灵活的设计,最多可以集成四个腔室,并且单个腔室已经优化了清洁技术,以实现高生产率和低 CoC。...

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novellus二手化学气相沉积mocvd设备 vector express
novellus二手化学气相沉积mocvd设备 vector express

novellus二手化学气相沉积mocvd设备 vector express

novellus化学气相沉积mocvd设备 vector express,购买于2004年,针对12英寸晶圆设计使用。...

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