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Novellus二手溅射设备Inova于1999年投入使用，适用于8英寸晶圆。...
Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用，适用于12英寸晶圆。...
TEL二手Furnace 炉设备 Indy-B于2012年开始投入使用，采用DCS Nit工艺，适用于12英寸晶圆。...
TEL 二手Furnace设备 Indy-A采用DCS Nit工艺，于2005年投入使用，适用于12英寸晶圆。...
TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0于2012年开始使用。...
Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP于2010年投入使用，针对于12英寸晶圆的Light Etch工艺。...
Mattson二手刻蚀设备ParadigmE于2012年开始使用，针对于12寸晶圆的刻蚀处理。...
Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P与1995年投入使用，针对于8英寸晶圆的刻蚀工艺。...
Axcelis二手刻蚀系统Integra于2012年投入使用，针对于12英寸晶圆的蚀刻处理。...
AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler，于2010年开始使用，采用氧化物刻蚀法，针对12英寸晶圆进行处理。...
TEL气相化学沉积设备,CVD设备triase所有这些型号都具有灵活的设计，最多可以集成四个腔室，并且单个腔室已经优化了清洁技术，以实现高生产率和低 CoC。...
novellus化学气相沉积mocvd设备 vector express，购买于2004年，针对12英寸晶圆设计使用。...
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