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ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10
ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10

ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10

ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10采用DARC流程工艺,针对于8英寸晶圆的处理,现货供应...

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ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300
ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300

ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300

ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300生产于2003年,针对12寸(300nm)晶圆处理。...

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amat等离子化学气相沉积PECVD设备producer se
amat等离子化学气相沉积PECVD设备producer se

amat等离子化学气相沉积PECVD设备producer se

AMAT等离子化学气相沉积PECVD设备producer se,生产于2003年,采用PETEOS工艺,针对12英寸(300mm)晶圆处理。...

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AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT
AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT

AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT

AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT,针对于300nm晶圆,主机类型为Centura AP,工艺采用WCVD,拥有4个腔室,3个装载端口。...

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Novellus刻蚀系统Gamma2130
Novellus刻蚀系统Gamma2130

Novellus刻蚀系统Gamma2130

Novellus 二手翻新 12英寸 现货Asher设备 刻蚀系统Gamma2130,属Asher类设备,针对于12英寸(300mm)晶圆处理。...

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Nikon尼康二手i-line光刻机NSR 2205 i12D
Nikon尼康二手i-line光刻机NSR 2205 i12D

Nikon尼康二手i-line光刻机NSR 2205 i12D

尼康的这款i-line光刻机NSR 2205i12D。分辨率≦350 nm,曝光光源i-line(365nm波长),缩小比1:5,曝光场22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 对准精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。...

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ASML二手翻新DUV光刻机XT:760F现货
ASML二手翻新DUV光刻机XT:760F现货

ASML二手翻新DUV光刻机XT:760F现货

ASML 二手翻新DUV光刻机生产于2006年,可针对于300mm尺寸的晶圆进行处理。...

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ASML二手DUV光刻机XT:450现货
ASML二手DUV光刻机XT:450现货

ASML二手DUV光刻机XT:450现货

TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具,设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。...

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ASML二手i-line光刻机XT:400G
ASML二手i-line光刻机XT:400G

ASML二手i-line光刻机XT:400G

TWINSCAN XT:400G 365 nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具,专为350 nm分辨率的300 mm晶圆批量生产而设计...

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ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi

ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi

TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。...

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ASML 二手ArF光刻机XT:1450现货供应
ASML 二手ArF光刻机XT:1450现货供应

ASML 二手ArF光刻机XT:1450现货供应

XT:1450 是先进的干式 ArF 批量生产系统。它提高了 IC 制造商的所有权价值,在批量制造条件下每小时可生产 143 片晶圆。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振,加上增强的镜头像差控制和增强的叠加...

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ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应
ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应

ASML 二手翻新光刻机XT:1400Ei现货供应

XT:1400Ei拥有高性能蔡司1400i镜头,拥有从0.65到0.93,此外,湿式系统增加了两倍自由度。...

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