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TEL二手刻蚀设备Tactras Vigus-0于2012年开始使用。...
Mattson二手刻蚀系统ParadigmE XP于2010年投入使用，针对于12英寸晶圆的Light Etch工艺。...
Mattson二手刻蚀设备ParadigmE于2012年开始使用，针对于12寸晶圆的刻蚀处理。...
Hitachi日立二手刻蚀系统DM421P与1995年投入使用，针对于8英寸晶圆的刻蚀工艺。...
Axcelis二手刻蚀系统Integra于2012年投入使用，针对于12英寸晶圆的蚀刻处理。...
AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler，于2010年开始使用，采用氧化物刻蚀法，针对12英寸晶圆进行处理。...
TEL气相化学沉积设备,CVD设备triase所有这些型号都具有灵活的设计，最多可以集成四个腔室，并且单个腔室已经优化了清洁技术，以实现高生产率和低 CoC。...
novellus化学气相沉积mocvd设备 vector express，购买于2004年，针对12英寸晶圆设计使用。...
ASM二手化学气相沉积CVD设备Eagla10采用DARC流程工艺，针对于8英寸晶圆的处理，现货供应...
ASM二手化学气相沉积PECVD设备Dragon 2300生产于2003年，针对12寸（300nm）晶圆处理。...
AMAT等离子化学气相沉积PECVD设备producer se，生产于2003年，采用PETEOS工艺，针对12英寸（300mm）晶圆处理。...
AMAT二手金属化学气相沉积设备Centura AP ISPRINT，针对于300nm晶圆，主机类型为Centura AP，工艺采用WCVD，拥有4个腔室，3个装载端口。...
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