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Nikon尼康二手i-line Stepper i线光刻机NSR 2205i11D生产于1997年，解析度≤350nm。...
ASML二手翻新现货ARF光刻机 AT:1100是一款步进式ARF扫描仪，可在300mm的晶圆上进行100nm体积的生产。...
ASML DUV光刻机 PAS 5500/750E 扫描仪是 ASML 针对 200 毫米晶圆分辨率要求低于 0.15 微米的解决方案。它有深紫外镜头。ASML PAS 5500/750E 扫描仪的应用包括 DUV 光刻。该扫描仪得到了增强，具有小...
ASML i-line光刻机PAS 5500/60是具有自动100mm晶圆盒处理能力的i-line系统。使用365nm近紫外光，此步进器能够实现450nm的最小特征尺寸和90nm光刻层之间的对齐。步进器使用5倍缩小成像，每次曝...
ASML i-line光刻机PAS 5500/450F是当时i-line步进器系列的最新、最先进的产品之一。...
4x 投影镜头，与 ASML 的 AERIAL 照明器相结合，可提供 280 nm 分辨率。步进扫描载物台技术可实现 AERIAL 照明强度和先进的 i 线抗蚀剂，吞吐量为 124 200-mm wph。步进扫描系统的分辨率和生产...
ASML PAS 5500/400是步进式和扫描式光刻系统。PAS 5500/400 可以生产8英寸的晶圆尺寸。...
PAS 5500/350C 是一款深紫外步进器，适用于 0.15-μm 及以上的应用。高生产率和低拥有成本也允许现有DUV步进晶圆厂的产能扩展。当与其他ASML PAS 5500 i-line和DUV 步进器结合使用时，PAS 5500/3...
ASML PAS 5500/300C每小时能够处理 88 个（200 毫米）晶圆。光刻机包含一个 AERIAL 照明器，可扩展超过 0.25 µm，而不会影响出色的成像，性能和高生产率。步进器具有可变 NA (0.40-0.57) 和分辨率...
ASML PAS 5500/275D 是一款高吞吐量 i-line 步进机。它利用 5X 缩小和投影能力，通过步进和重复使用 365 nm 波长的光将光掩模图案转移到用户基板上，并具有 280 nm 分辨率。全自动晶圆处理系统...
PAS 5500/150对于150毫米晶圆，该系统每小时可生产超过110片晶圆，对于200毫米晶圆，每小时可生产超过80片晶圆-生产率规格比之前的PAS 5500/100系统高10%。...
PAS 5500/1150C 193nm步进扫描系统能够实现成本效益的90nm ArF批量生产。PAS 5500/1150C是90nm临界和非临界ArF层的解决方案。PAS 5500/1150C可以配置许多选项，使制造中实现低成本，将PAS5500/1150C的应...
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