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HP-200是为光刻、MEMS和类似应用中的精密热处理工艺而开发的。默认温度范围设计为高达250°C。...
全自动晶圆清洗机 AWS150针对 4 寸晶圆后端制程设计，用于单片清洗。...
HITACHI KOKUSAI Asher RAM-8500ZX，针对于8英寸晶圆Asher设备，生产于1996年。...
爱发科ULVAC蒸发镀膜设备 蒸发台EBX-1000生产于2002年。 ...
SEMVision G2 的检测组装和处理使微小和浅缺陷的高质量地形图像成为可能。高动态范围检测、背散射电子收集和能量过滤可实现高纵横比成像。...
CS4800 提供高质量的 SEM 成像、改进的测量精度以及快速、自动化的操作，旨在提高现有生产线的生产力和运营效率，并提高客户的过程控制能力。...
SCREEN单片式半导体清洗设备SU 3100具有8个内置腔室，吞吐量能够达到300wph。...
CLEAN TRACK™ LITHIUS™ 是一款 300/200mm 涂布机/显影机。为应对剧烈波动的市场需求，CLEAN TRACK™ LITHIUS™ 的开发基于三个概念：改进的处理、缩短的循环时间和增强的网络解决方案。它提高...
Nikon尼康二手i-line Stepper i线光刻机NSR 2205i11D生产于1997年，解析度≤350nm。...
ASML二手翻新现货ARF光刻机 AT:1100是一款步进式ARF扫描仪，可在300mm的晶圆上进行100nm体积的生产。...
ASML DUV光刻机 PAS 5500/750E 扫描仪是 ASML 针对 200 毫米晶圆分辨率要求低于 0.15 微米的解决方案。它有深紫外镜头。ASML PAS 5500/750E 扫描仪的应用包括 DUV 光刻。该扫描仪得到了增强，具有小...
ASML i-line光刻机PAS 5500/60是具有自动100mm晶圆盒处理能力的i-line系统。使用365nm近紫外光，此步进器能够实现450nm的最小特征尺寸和90nm光刻层之间的对齐。步进器使用5倍缩小成像，每次曝...
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