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ASML i-line光刻机PAS 5500/450F是当时i-line步进器系列的最新、最先进的产品之一。...
4x 投影镜头，与 ASML 的 AERIAL 照明器相结合，可提供 280 nm 分辨率。步进扫描载物台技术可实现 AERIAL 照明强度和先进的 i 线抗蚀剂，吞吐量为 124 200-mm wph。步进扫描系统的分辨率和生产...
ASML PAS 5500/400是步进式和扫描式光刻系统。PAS 5500/400 可以生产8英寸的晶圆尺寸。...
PAS 5500/350C 是一款深紫外步进器，适用于 0.15-μm 及以上的应用。高生产率和低拥有成本也允许现有DUV步进晶圆厂的产能扩展。当与其他ASML PAS 5500 i-line和DUV 步进器结合使用时，PAS 5500/3...
ASML PAS 5500/300C每小时能够处理 88 个（200 毫米）晶圆。光刻机包含一个 AERIAL 照明器，可扩展超过 0.25 µm，而不会影响出色的成像，性能和高生产率。步进器具有可变 NA (0.40-0.57) 和分辨率...
ASML PAS 5500/275D 是一款高吞吐量 i-line 步进机。它利用 5X 缩小和投影能力，通过步进和重复使用 365 nm 波长的光将光掩模图案转移到用户基板上，并具有 280 nm 分辨率。全自动晶圆处理系统...
PAS 5500/150对于150毫米晶圆，该系统每小时可生产超过110片晶圆，对于200毫米晶圆，每小时可生产超过80片晶圆-生产率规格比之前的PAS 5500/100系统高10%。...
PAS 5500/1150C 193nm步进扫描系统能够实现成本效益的90nm ArF批量生产。PAS 5500/1150C是90nm临界和非临界ArF层的解决方案。PAS 5500/1150C可以配置许多选项，使制造中实现低成本，将PAS5500/1150C的应...
ASML ARF光刻机PAS 5500/1100B支持 8" / 200m 工艺节点。ASML光刻机5500/1100B使用 ASML 的专利Athena晶圆对准系统，配备193nm ArF激光器和0.75 NA，能够达到 100nm以下的分辨率。 ASML ARF光刻机5500/1100B 的应...
PAS5500/100Di线步进设计用于0.4µm的大规模生产，在其可变数值孔径(NA)保持最大功能性的同时实现极高的吞吐量。该步进器通过优化关键工艺层的聚焦深度和分辨率，扩展了i-line制造多代亚...
ASML i-line光刻机PAS5000/40使用0.40NA i-line 镜头，像场直径为21.1mm。该步进器使用i-line工艺针对 0.7 微米以下的生产分辨率进行了优化。...
ASML二手现货i-line光刻机PAS 2500/40适用于6英寸晶圆，采用365nm的i-line曝光光源。...
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