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现有机型SU8240,SU8230,SU8220及SU8010重新整合，衍生而成Regulus8240、Regulus8230、Regulus8220、Regulus8100。...
"RuliTEM"120 kV透射电子显微镜系列，包含配备高衬度透镜，实现大视野、高对比度观察的HT7800和配备同级别最高分辨率透镜的HT7830...
专用扫描透射显微镜HD-2700，配备了与德国CEOS GmbH公司(总经理Max Haider先生)共同开发的球差校正仪，显著提高了扫描透射电子显微镜的性能，更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统...
球差场发射透射电子显微镜 HF5000通过单极片实现0.078 nm的STEM空间分辨率和高样品倾斜度、高立体角EDX。...
德国suss公司的ma8光刻机，兼容4、6、8英寸wafer，Led光源，3个独立波长(g、h、i)，可自定义。可以提供正面和双面套准。...
PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统。...
AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外，可以在高宽比的孔...
AD-230LP是一种原子层沉积（ALD）系统，能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室，仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室，且不向大气开放...
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。...
至纯科技 单片式湿法清洗设备 Ultron S200/S300...
ULVAC CS-200系列磁控溅射镀膜设备是一款追求低成本和用户友好操作的磁控溅射设备，通过增加配有机械手d装载固定腔室（Load lock chamber）使在上下基板时工艺腔室仍保持真空。...
centrotherm 卧式热反应系统HORICOO 200 是大量现场验证及具有多功能的卧式炉系统，基于客户需求可灵活选择大、中批量生产以及研发类型机台。为AP、LP和PECVD等多种工艺应用提供了可靠的...
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