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爱发科 ICP刻蚀设备 刻蚀系统NE-550EXz
爱发科 ICP刻蚀设备 刻蚀系统NE-550EXz

爱发科 ICP刻蚀设备 刻蚀系统NE-550EXz

爱发科ICP刻蚀设备刻蚀系统NE-550EXz现货,电极的刻蚀效果好,能够进行正确稳定的刻蚀重点效果检测,具有维护便利、性能稳定、产能优良等特点。...

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二手翻新现货Nikon步进式光刻机 NSR G8A
二手翻新现货Nikon步进式光刻机 NSR G8A

二手翻新现货Nikon步进式光刻机 NSR G8A

二手翻新现货Nikon步进式光刻机 NSR G8A 1台,包含技术方案修改和售后服务,同时为您提供整个半导体产业链的技术参考和方案设计。...

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尼康Nikon二手光刻机NSR-2005 I8A翻新现货
尼康Nikon二手光刻机NSR-2005 I8A翻新现货

尼康Nikon二手光刻机NSR-2005 I8A翻新现货

二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-2005 I8A价格大约80万美金左右,更多详细参数和技术修改以及方案对接,请咨询我们进行详谈。​...

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二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-1755 i7
二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-1755 i7

二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-1755 i7

现有二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-1755 i7​一台,价格大约$650,000左右,针对4寸/6寸晶圆,分辨率0.6 um um L&S​。...

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二手 AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000
二手 AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000

二手 AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000

AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000由全球著名半导体设备厂商美国应用材料公司(Applied Materials)生产,P5000系统是世界上第一台成功的以单晶片、多反应室理念而设计的量产与研发均适用的半...

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二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW
二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW

二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW

​二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW最大处理515*510mm的大型面板基板,可实现大封装PLP生产,同时具备1.0μm的分辨率,高效灵活。...

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佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV
佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV

佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV

佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV,用于高级封装的 i-line 步进器,具有支持高分辨率和大曝光场的可选阵容,现货支持。...

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二手现货佳能宽视场/高分辨率i-line步进器光刻机FPA-5510iX
二手现货佳能宽视场/高分辨率i-line步进器光刻机FPA-5510iX

二手现货佳能宽视场/高分辨率i-line步进器光刻机FPA-5510iX

二手现货佳能光刻机FPA-5510iX,可在 50 mm x 50 mm 的大曝光场上提供 0.5 um 的分辨率在单次曝光中曝光大视野的能力为 FPA-5510iX 提供了很大的优势。...

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二手翻新佳能现货 i线步进式光刻机FPA-5550iZ2
二手翻新佳能现货 i线步进式光刻机FPA-5550iZ2

二手翻新佳能现货 i线步进式光刻机FPA-5550iZ2

佳能i线步进式光刻机FPA-5550iZ2生产效率高,重叠精度高,能够快速完成晶圆的测量和校准,减少了晶圆处理的时间。...

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佳能二手翻新步进式光刻机FPA-3030EX6,用于物联网设备
佳能二手翻新步进式光刻机FPA-3030EX6,用于物联网设备

佳能二手翻新步进式光刻机FPA-3030EX6,用于物联网设备

佳能半导体光刻设备-步进式光刻机FPA-3030EX6,专用于物联网设备的KrF光刻机,最高分辨率达到150nm,可用电脑进行远程操控。...

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佳能二手翻新光刻机KrF扫描仪FPA-6300ES6a
佳能二手翻新光刻机KrF扫描仪FPA-6300ES6a

佳能二手翻新光刻机KrF扫描仪FPA-6300ES6a

佳能半导体光刻设备,高分辨率/高生产率 KrF 扫描仪FPA-6300ES6a 二手光刻机翻新现货。...

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SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR
SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR

SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR

SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR,紧凑型设计,能够处理8英寸晶圆,操作简易。...

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